為真空而生

專(zhuān)注真空泵與系統設計制造16年

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電子工業(yè)行業(yè)-真空泵
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電子工業(yè)行業(yè)-真空泵

文章出處:電子工業(yè)行業(yè)-真空泵 網(wǎng)站編輯: 雅之雷德 閱讀量: 發(fā)表時(shí)間:2020-08-15 16:08:27

電子工業(yè)應用介紹

Application Introduction

關(guān)于電子工業(yè)應用

電子產(chǎn)品屬于現代日常生活,沒(méi)有它想象生活不再是可能的。 電腦、智能手機、汽車(chē)、家居控制設備、醫療設備及其他的高集成電路都基于半導體技術(shù)。


優(yōu)勢

市場(chǎng)由現代通信工具驅動(dòng),如智能手機、平板電腦、電視平板顯示器或或物聯(lián)網(wǎng)。無(wú)論是離子注入機、刻蝕還是PECVD設備 — 好凱德將為您找到高質(zhì)量和高可靠性真空解決方案,以獲得最佳性能。


半導體加工

市場(chǎng)由現代通信工具驅動(dòng),如智能手機、平板電腦、電視平板顯示器或或物聯(lián)網(wǎng)。無(wú)論是離子注入機、刻蝕還是PECVD設備 — 好凱德將為您找到高質(zhì)量和高可靠性真空解決方案,以獲得最佳性能。我們繼續革新領(lǐng)先技術(shù)解決方案,這些解決方案將會(huì )提升制程正常運轉時(shí)間、產(chǎn)量、吞吐量與安全認證水平,同時(shí)通過(guò)減輕不利于環(huán)境的排放、延長(cháng)產(chǎn)品使用壽命并降低持續服務(wù)成本,努力協(xié)調平衡往往相互沖突的更低擁有成本要求。

◆  平版印刷

平版印刷(即晶圓的圖案形成)是半導體 制程中的一個(gè)關(guān)鍵步驟。雖然傳統甚至浸潤式平版印刷一般不需要真空環(huán)境,但遠紫外 (EUV) 平版印刷和電子束平版印刷卻需要真空泵。Hokaido可以讓您有效應對這兩種應用。

◆ 化學(xué)氣相沉淀

化學(xué)氣相沉淀(CVD)系統具有多種配置用于沉積多種類(lèi)型的薄膜。制程還以不同的壓力和流量狀態(tài)運行,其中的許多狀態(tài)都使用含氟的干燥清潔制程。所有這些可變因素意味著(zhù)您需要咨詢(xún)我們的應用工程師之一來(lái)選擇適當的泵和氣體減排系統以便最大程度地延長(cháng)我們產(chǎn)品的維修間隔并延長(cháng)您制程的正常運行時(shí)間。

◆ 刻蝕

由于許多半導體的特征尺寸非常精細,刻蝕制程變得越來(lái)越復雜。此外,MEMS設備和3D結構的擴增對于具有高縱橫比的結構越來(lái)越多地使用硅刻蝕制程。傳統上來(lái)說(shuō),可以將刻蝕制程分組到硅、氧化物和金屬類(lèi)別。由于現今的設備中使用更多硬遮罩和高k材料,這些類(lèi)別之間的界限已經(jīng)變得非常模糊。現今的設備中使用的某些材料能夠在刻蝕過(guò)程中頑強地抵抗蒸發(fā),從而導致在真空組件內沉積。如今的制程確實(shí)變得比數年前更具有挑戰性。我們密切關(guān)注行業(yè)和制程變化并通過(guò)產(chǎn)品創(chuàng )新與其保持同步,從而實(shí)現一流的性能。

◆ 離子注入

離子注入工具在前段制程中仍然具有重要的作用。與離子注入有關(guān)的真空挑戰并未隨著(zhù)時(shí)間的推移而變得更加容易,而且我們認識到了在嘈雜的電子環(huán)境中操作真空泵時(shí)所面對的挑戰。我們從未滿(mǎn)足于絕對最低性能測試符合既定的電磁抗擾性測試標準。我們知道,注入工具上使用的泵將需要更高的抗擾性和特別的設計特性,以確保注入工具的高電壓段不會(huì )干擾泵的可靠性。

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